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PVD工藝簡介

PVD工藝 PVD=物理氣相沉積 在高真空、溫度介于150到500℃時(shí)進(jìn)行PVD處理。 通過加熱或離子轟擊（噴射）使堅(jiān)固的高純度涂層材料（金屬，如鈦、鉻和鋁）蒸發(fā)。同時(shí)，加入反應(yīng)氣體（例如氮或含碳?xì)怏w），這些氣體與金屬蒸氣反應(yīng)生成化合物，然后沉積在工具或元件上形成薄而高度粘附的涂層。為了使涂層厚度均勻，以勻速繞多個(gè)軸旋轉(zhuǎn)零件。 涂層的屬性（例如硬度、結(jié)構(gòu)、耐化學(xué)性和耐溫性、附著性）可得到精確控制。 PVD工藝包括電弧蒸鍍、濺射、離子電鍍和增強(qiáng)濺射。 電弧蒸鍍 在此工藝中，直徑僅為幾微米的電弧環(huán)繞堅(jiān)固的金屬涂層材料運(yùn)動(dòng)，使該涂層材料蒸發(fā)。由于使用了強(qiáng)電流和功率密度，蒸發(fā)材料幾乎全部離子化并形成高能量的等離子。 金屬離子與加入到反應(yīng)室中的反應(yīng)氣體結(jié)合，以高能量沖擊待涂的工具或元件,最后沉積為薄而高度粘附的涂層。 1 氬 2 反應(yīng)氣體 3 電弧源（涂層材料和背板） 4 元件 5 真空泵       濺射 在反應(yīng)濺射工藝中，待涂的零件先在真空室中加熱。隨后用氬離子通過轟擊進(jìn)行離子蝕刻。這就使金屬表面純潔干凈，無任何原子污染，這是涂層附著的一個(gè)重要條件。 然后對(duì)包含涂層材料的濺射源加上高負(fù)電壓。隨之而來的電子氣體放電形成正氬離子，這些離子在涂層材料方向上加速，然后通過轟擊分裂為原子。分裂為原子的金屬蒸發(fā)顆粒與加入到真空室中的氣體（包含要沉積的硬涂層的非金屬成分）反應(yīng)。 結(jié)果是具有所需結(jié)構(gòu)和成分的薄而緊密的涂層在基底上沉積。 1 氬 2 反應(yīng)氣體 3 平面磁控管蒸發(fā)源（涂層材料） 4 元件 5 真空泵 增強(qiáng)濺射 增強(qiáng)濺射的原理類似于噴射工藝。低壓電弧在真空室中央放電使等離子強(qiáng)度增大幾倍，從而產(chǎn)生強(qiáng)度更高的電離。 1 電子束源 2 氬 3 反應(yīng)氣體 4 平面磁控管蒸發(fā)源（涂層材料） 5 元件 6 低壓電弧放電 7 輔助陽極 8 真空泵 離子電鍍 離子電鍍是使用反應(yīng)性電子束蒸發(fā)的PVD工藝。濺射通過用氬離子轟擊從金屬板上移離涂層材料；在離子電鍍中，用低壓電弧蒸發(fā)涂層材料的金屬成分（例如，鈦或鉻）。 感谢您访问我们的网站，您可能还对以下资源感兴趣： 91国产精品